東莞電子超純水設(shè)備

電子超純水設(shè)備主要應(yīng)用于電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗，電子管生產(chǎn)，電子管陰極涂敷碳酸鹽配液，顯像管和陰極射線管生產(chǎn)配料用純水黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)，玻殼清洗、沉淀、濕潤(rùn)、洗膜、管頸清洗用純水，液晶顯示器的生產(chǎn)，屏面需用純水清洗和用純水配液晶體管生產(chǎn)中主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片等。

       電子超純水設(shè)備詳解:電子工業(yè)超純水設(shè)備通常由多介質(zhì)過(guò)濾器，活性碳過(guò)濾器，鈉離子軟化器、精密過(guò)濾器等構(gòu)成預(yù)處理系統(tǒng)、RO反滲透主機(jī)系統(tǒng)、離子交換混床（EDI電除鹽系統(tǒng)）系統(tǒng)等構(gòu)成主要設(shè)備系統(tǒng)。

半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的純水、高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，線寬越窄，對(duì)水質(zhì)的要求也越高。目前我國(guó)電子工業(yè)部把電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)分為五個(gè)行業(yè)等級(jí)，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區(qū)分不同水質(zhì)。

電子超純水設(shè)備工藝流程:采用反滲透設(shè)備與電去離子（EDI）設(shè)備進(jìn)行搭配制備電子工業(yè)超純水的的方式，這是一種制取超純水的最新工藝，也是一種環(huán)保，經(jīng)濟(jì)，發(fā)展?jié)摿薮蟮某兯苽涔に?，其基本工藝流程為：原水→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→精密過(guò)濾器→中間水箱→反滲透設(shè)備→電去離子（EDI）→超純水箱→超純水泵→后置保安過(guò)濾器→用水點(diǎn)、原水箱、中間水箱、 RO純水水箱、超純水水箱均設(shè)有液位控制系統(tǒng)、高低壓水泵均設(shè)有高低壓壓力保護(hù)裝置、在線水質(zhì)檢測(cè)控制儀表、電氣采用PLC可編程控制器，真正做到了無(wú)人值守，同時(shí)在工藝選材上采用推薦和客戶要求相統(tǒng)一的方法，使該設(shè)備與其它同類產(chǎn)品相比較，具有更高

電子超純水設(shè)備出水標(biāo)準(zhǔn)

●中國(guó)電子行業(yè)超純水國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)GB/1146.1-1997

●實(shí)驗(yàn)室用水國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)GB6682-92

●美國(guó)半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo)

●美國(guó)試驗(yàn)級(jí)用水標(biāo)準(zhǔn)( ASTM/NCCLS)

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